作者：布施 玄秀 （編著）
定價：NT$ 566
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超ＬＳＩを支えるプロセス加工技術の中でもイオン注入技術は半導体プロセスに大きな革命をもたらしてきた。イオン注入の基礎とデバイス応用、さらに装置の内容について解説する。【「TRC MARC」の商品解説】
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二手徵求有驚喜
