作者：岡崎 信次
定價：NT$ 778
市面難尋商品，已售完
光、電子線、Ｘ線・ＥＵＶなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれる。変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説した入門書。【「TRC MARC」の商品解説】
退換貨說明：
雜誌商品，恕不提供10天猶豫期退貨。
收藏成功!您可以新增分類將收藏放進去
請在手機上開啟Line應用程式，點選搜尋欄位旁的掃描圖示即可掃描此ORcode
收藏
二手徵求有驚喜
