全書共分10章，系統地闡述了真空鍍膜技術的基本概念和基礎理論、各種薄膜製備技術、設備及工藝、真空捲繞鍍膜技術、ITO導電玻璃真空鍍膜工藝，尤其重點介紹了一些近年來新出現的鍍膜方法與技術，如反應磁控濺射鍍膜技術、中頻磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜技術等；還詳細介紹了薄膜沉積及膜厚的監控與測量以及表面與薄膜分析檢測技術等方面的內容。
本書具有很強的實用性，適合於真空鍍膜行業、薄膜與表面應用、材料工程、應用物理以及與真空鍍膜技術有關的行業從事研究、設計、設備生產操作與維護的技術人員，也適用與真空鍍膜技術相關的實驗研究人員和學生，還可用作大專院校相關專業師生的教材及參考書
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